西湖大学冲破“冰刻”三维微纳加工技巧


更新时间: 2020-12-06

仇旻说,实质上“冰刻”仍属于电子束光刻。但它作为一种绿色且“平和”的加工手腕,尤其实用于非平面衬底或者易损柔性材料,甚至为生物材料加工发明更多可能。

“实在,咱们只是把传统电子束光刻技术中的光刻胶换成了冰。”研究团队负责人、西湖大学副校长仇旻说,这次没掉队!魅族官宣:新机明年春季见 首批搭载高通骁。这一换,换出了一条簇新的、有望开拓出重大发展与利用远景的技术路线。

当电子束打在冰层上,冰会气化,这样就能直接雕刻出冰模板,不须要像传统光刻那样用化学试剂清洗一遍来构成模具,从而躲避了洗胶带来的传染,以及难以洗净的光刻胶残留导致良品率低等问题。这样能够极大地简化加工流程。

不外,传统电子束光刻技术有必定局限性。“在样品上涂抹光刻胶,这是传统光刻加工的第步。这个动作有点像摊鸡蛋饼,假如铁板不平坦,饼就摊不好。同时,被抹胶的处所,面积不能太小,否则胶不轻易摊开摊匀;材质不能过脆,否则容易决裂。”仇旻试验室助理研究员赵鼎说。

谈到“冰刻2.0”技术的创意,科研职员形象地举了一个例子。

在传统的电子束光刻技术中,要在硅晶片长进行纳米标准的加工,首先要将光刻胶平均地涂抹在晶片表面;而后,用电子束在真空环境中将图案写在光刻胶上,对应位置的光刻胶性质会发生变更;之后,用化学试剂洗去性质转变的光刻胶,一片镂空的光刻胶模具就做好了。接下来,将金属“填”进镂空地位,使之“长”在晶片名义。最后,再用化学试剂将所有光刻胶荡涤清洁,去除废物后只留下金属构造。

“冰刻”原理简略明了,但仪器的研制则异样艰苦,港彩520868。自2018年研发出“冰刻”体系后,研讨团队进一步从定位精度、雕刻力度以及冰在电子作用下与资料产生的奇特反映等多维度入手,连续研究,以晋升“冰刻”技巧。

光刻胶是微电子技术中微细图形加工的要害材料之一。所以有人说,中国要制作芯片,就要攻破国外对光刻胶的垄断。

如何用巧克力粉在奶油蛋糕表面洒出“生日快乐”?只要要一片有镂空“诞辰快活”字样的模具。把来自宏观世界的灵感运用到微纳结构加工中,就是当前最常用的微纳加工计划之一——电子束光刻技术。

浙江日报讯 (记者严粒粒通信员冯怡)在西湖大学纳米光子学与仪器技术实验室,项症结材料科技翻新正在逐步成型。

记者近日从西湖大学获悉:经由8年摸索,仇旻研究团队在《纳米快报》等期刊上持续发表了系列研究结果,“冰刻2.0”三维微纳加工系统雏形初现。

基于2年前实现研发的“冰刻”系统,“冰刻2.0”技术有望改变传统电子束光刻的繁琐加工程序,造成套“材料进、成品出”的全流程体化、主动化微纳加工系统。

光刻胶之所短,偏偏是水之所长。

研究人员把样品放入真空装备后,先给样品降温,再注入水蒸气。在零下140摄氏度左右的真空环境,水蒸气会在样品上凝华成薄薄的冰层。一方面水蒸气可以包裹任意外形、大小不拘的样品表面;另一方面,水蒸气的轻若无物,也使得在懦弱材料上加工变成可能。对应光刻胶,研究团队给这层冰起名“冰胶”,给冰胶参加的电子束光刻技术起名“冰刻”。


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